东莞松山湖中图半导体氮化镓衬底年产能超1800万片 全球市占率超30% - 园区产业招商网
东莞松山湖中图半导体氮化镓衬底年产能超1800万片 全球市占率超30%
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| 所在园区 | 东莞松山湖 |
| 企业名称 | 广东中图半导体科技股份有限公司 |
| 成立时间 | 2013年 |
| 主营方向 | 第三代半导体氮化镓衬底材料、图形化衬底 |
| 技术成果 | 两次获国家技术发明奖二等奖 |
| 关键工艺 | 自主研发二次掩膜刻蚀技术、MMS复合材料衬底量产 |
| 年产能 | 图形化衬底超1800万片 |
| 市场地位 | 全球市场占有率连续多年超过30% |
| 新建项目 | 投资超10亿元，落地松山湖生态园 |
| 项目内容 | Mini/Micro LED及车用LED芯片图形化衬底产业化、半导体衬底材料工程技术研究中心 |
| 经营情况 | 自2016年以来保持持续盈利 |
| 产业链角色 | 东莞高端电子信息材料重点产业链链主企业 |
技术攻关路径
2013年成立之初，我国境内图形化衬底大多处在追赶学习阶段。中图半导体用十余年时间走出步步进阶的路径：2014至2016年积累技术经验；2016至2018年依靠自主研发的二次掩膜刻蚀技术打破境外技术壁垒，参与的“氮化物半导体大失配异质外延技术”项目获得国家技术发明奖二等奖，推动图形化衬底走向国产化。
2018至2023年，企业在全球推出MMS复合材料衬底并实现量产，整套制造链条基本完成国产替代，凭借“氮化镓基发光器件关键衬底技术”项目再度获得国家技术发明奖二等奖。如今企业把目光投向Micro-LED、高速光通信、氮化镓功率器件等新赛道，持续布局下一代产品。
产能与市场表现
从实验室技术到稳定供货，需要跨过量产良率、成本控制与客户验证几道关口。中图半导体持续加大研发投入，加强与科研机构对接合作，并坚持以市场需求为导向选择转化路径，让技术真正跑出产业价值。
目前企业图形化衬底年产能超1800万片，全球市场占有率连续多年超过30%，服务海内外一批头部芯片企业，为东莞及周边LED产业链筑牢上游材料根基。企业自2016年以来保持持续盈利，完整穿越多轮行业周期。
新项目与产业链带动
作为东莞高端电子信息材料重点产业链的链主企业，中图半导体主动带动本地半导体产业共同成长。企业承办行业论坛与供应链对接活动，既吸引外地半导体企业来莞考察交流，也推动市内上下游企业对接合作。
投资超10亿元的产业化项目正在松山湖生态园落地，建设Mini/Micro LED及车用LED芯片图形化衬底产业化项目和半导体衬底材料工程技术研究中心。随着项目推进，有望吸引更多配套企业集聚东莞，壮大第三代半导体产业集群，也为相关设备、材料与厂房载体带来新增需求。
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来源：东莞+（投资东莞） | 原文链接
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